看点
PatternPortrait 把“AI 学你的笔迹”换成了更准确也更有意思的流程：艺术家 Bleeptrack 先画一张单独的图案涂鸦，定制图神经网络从这一个向量路径样本学习线条之间的结构。到现场的参与者并不负责训练风格，而是让装置拍一张肖像；软件依次去除背景、提取边缘，再用已经学到的图案语言把脸变成线稿，绘图机器人最终把它画到纸上。小数据、单样本和实体落笔共同构成核心。
怎么开始
线上打开作者页，先看 collection of portraits，再看 plotting in process 和 video documentation，对照电脑里的线稿与旁边机器人绘制的纸面结果。完整参与必须到展览现场拍照并等待绘图；页面列出的展出从 2022 年 AI+X Summit 到 2025 年 TED AI，都是历史记录，当前没有长期开放的网页上传入口。
门槛与来源
作者页确认自研 GNN、向量路径、单一样本训练、拍照、去背景、边缘检测和机器人绘图流程；最早列出的公开展出年份为 2022，因此日期按年精度保存为 2022 年 1 月 1 日，仅用于排序，不虚构具体首展日。现场会拍摄参与者面部，图像保存、删除和授权应以当次展方告知为准。封面为作者官网 3840×2160 首图，能看到电脑肖像与绘图设备，远程引用并署名 Bleeptrack。